アドバンスト研磨液ろ過ソリューション

精密ろ過プロセスは、研磨スラリーの一貫した粒径分布、化学的安定性、超高純度を維持するために重要であり、ウェーハ表面の平坦性と欠陥の低減に直接影響します。 LOONG Filtration では、高度な膜技術と汚染制御設計を組み合わせた、CMP プロセスの厳しい要件を満たす特殊な濾過ソリューションを半導体メーカーに提供しています。酸化物、STI、金属研磨のいずれの用途であっても、当社のシステムは高度なノード製造における高歩留まり、均一な除去速度、信頼性の高いパフォーマンスの確保に役立ちます。

LOONG の濾過プロセスは、効率と卓越性を目指して設計されています。