高度なフォトリソグラフィー化学濾過ソリューション

精密ろ過プロセスにより、超高純度、粒子数の制御、および金属イオンの厳密な除去が保証され、それによって重要な製造ステップにおける光化学薬品の完全性と性能が保護されます。 LOONG Filtration では、最先端のメンブレン技術と汚染のない性能を組み合わせた、高度なノードプロセスの厳しい要件を満たす検証済みのろ過ソリューションを半導体メーカーに提供しています。フォトレジスト、現像液、または CMP スラリーを扱うかどうかに関係なく、当社のシステムはあらゆる生産工程で歩留まりの向上と一貫した品質を保証します。

LOONG の濾過プロセスは、効率と卓越性を目指して設計されています。