À medida que os nós de processo de semicondutores diminuem para 3 nm, 2 nm e além, os tamanhos dos recursos e as arquiteturas 3D crescem exponencialmente complexos, transformando até mesmo partículas abaixo de 10 nm em eliminadores de rendimento. Na fabricação avançada, um único contaminante em fluidos de resfriamento, fotorresistentes ou agentes de corrosão pode interromper padrões de circuito, causar curto-circuito em conexões ou tornar wafers inteiros defeituosos. Essa maior sensibilidade à microcontaminação tornou os fluxos de fluidos ultralimpos não apenas um requisito, mas um elemento fundamental da eficiência da produção: um controle mais rígido de partículas se traduz diretamente em rendimentos 15-30% maiores, reduzindo bilhões em custos de sucata anualmente.
As tecnologias de filtragem da LOONG são projetadas para enfrentar de frente essas batalhas microscópicas. Em todos os principais processos — desde a circulação de lama CMP até a filtração fotorresistente e a purificação por ácido/base — nossas soluções visam e removem partículas, coloides e impurezas químicas em nanoescala. Aproveitando materiais de membrana de última geração (PTFE, PES) e fabricação de altíssima pureza, prosperamos nos ambientes mais adversos.
Nossa solução de filtragem foi projetada para minimizar os extraíveis e manter a integridade do fluxo, garantindo que os fluidos permaneçam livres de contaminantes desde o armazenamento até as ferramentas de processo. Limpeza consistente e repetível que protege seus nós mais avançados e seus resultados financeiros.
Remove com eficácia partículas submicrométricas e íons metálicos para eliminar fontes de defeitos nas superfícies do wafer, garantindo que os fotorresistentes e os reveladores atendam aos requisitos extremos de pureza para nós avançados.
Consistência excepcional de lote A filtragem confiável elimina a variação entre lotes, mantendo parâmetros críticos como viscosidade e tensão superficial dentro das especificações para suportar alto rendimento de cavacos.
Custo de propriedade reduzido A filtragem de alta eficiência minimiza o desperdício de produtos químicos de alto valor, ao mesmo tempo que prolonga a vida útil dos componentes e reduz o tempo de inatividade, otimizando os custos operacionais gerais.
Segurança de fornecimento ininterrupta A filtragem de alto fluxo totalmente automatizada permite a produção contínua, evitando interrupções na disponibilidade da ferramenta de litografia e garantindo o fornecimento confiável para as operações da fábrica.
Garantia de planarização superior Controla com precisão a distribuição do tamanho das partículas abrasivas e remove contaminantes aglomerados para evitar arranhões no wafer, garantindo alto rendimento em processos de planarização de cavacos.
Promessa de ausência absoluta de contaminação Elimina efetivamente íons metálicos e impurezas orgânicas que podem comprometer o desempenho do dispositivo, atendendo aos padrões de pureza extremos para nós avançados.
Excelente uniformidade entre lotes A filtragem consistente mantém a composição química e a concentração de partículas uniformes entre os lotes, proporcionando repetibilidade confiável da janela do processo para produção em massa.
Economia de produção otimizada A filtragem de alto fluxo permite a produção contínua de polpa, reduz o tempo de inatividade e minimiza o desperdício de matéria-prima, aumentando a capacidade geral e a lucratividade.
