A medida que los nodos de proceso de semiconductores se reducen a 3 nm, 2 nm y más, los tamaños de las características y las arquitecturas 3D se vuelven exponencialmente complejos, convirtiendo incluso partículas de menos de 10 nm en factores que reducen el rendimiento. En la fabricación avanzada, un solo contaminante en los fluidos refrigerantes, fotorresistentes o grabadores puede alterar los patrones de los circuitos, provocar cortocircuitos en las conexiones o provocar que obleas enteras sean defectuosas. Esta mayor sensibilidad a la microcontaminación ha hecho que las corrientes de fluidos ultralimpios no sean solo un requisito, sino un eje de la eficiencia de la producción: un control más estricto de las partículas se traduce directamente en rendimientos entre un 15% y un 30% más altos, lo que reduce miles de millones en costos de chatarra anualmente.
Las tecnologías de filtración de LOONG están diseñadas para enfrentarse frontalmente a estas batallas microscópicas. En todos los procesos clave, desde la circulación de lodos CMP hasta la filtración fotorresistente y la purificación de grabadores ácidos/base, nuestras soluciones apuntan y eliminan partículas, coloides e impurezas químicas a nanoescala. Aprovechando los materiales de membrana de próxima generación (PTFE, PES) y la fabricación de pureza ultra alta, prosperamos en los entornos más hostiles.
Nuestra solución de filtración está diseñada para minimizar los extraíbles y mantener la integridad del flujo, garantizando que los fluidos permanezcan libres de contaminantes desde el almacenamiento hasta las herramientas de proceso. Limpieza constante y repetible que protege sus nodos más avanzados y sus resultados finales.
Elimina eficazmente partículas submicrónicas e iones metálicos para eliminar fuentes de defectos en las superficies de las obleas, lo que garantiza que los fotorresistentes y los reveladores cumplan con los requisitos de pureza extrema para los nodos avanzados.
Consistencia de lote excepcional La filtración confiable elimina la variación de un lote a otro, manteniendo parámetros críticos como la viscosidad y la tensión superficial dentro de las especificaciones para respaldar un alto rendimiento de viruta.
Costo de propiedad reducido La filtración de alta eficiencia minimiza el desperdicio de productos químicos de alto valor al tiempo que extiende la vida útil de los componentes y reduce el tiempo de inactividad, optimizando los costos operativos generales.
Seguridad de suministro ininterrumpido La filtración de alto flujo totalmente automatizada permite una producción continua, evitando interrupciones en la disponibilidad de herramientas de litografía y garantizando un suministro confiable para las operaciones de la fábrica.
Garantía superior de planarización Controla con precisión la distribución del tamaño de las partículas abrasivas y elimina los contaminantes aglomerados para evitar que se raye la oblea, lo que garantiza un alto rendimiento en los procesos de planarización de virutas.
Promesa absoluta de ausencia de contaminación Elimina eficazmente los iones metálicos y las impurezas orgánicas que podrían comprometer el rendimiento del dispositivo, cumpliendo con estándares de pureza extremos para nodos avanzados.
Excelente uniformidad entre lotes La filtración consistente mantiene una composición química y una concentración de partículas uniformes en todos los lotes, lo que proporciona una ventana de repetibilidad confiable del proceso para la producción en masa.
Economía de producción optimizada La filtración de alto flujo permite la producción continua de lodos, reduce el tiempo de inactividad y minimiza el desperdicio de materia prima, lo que mejora la capacidad y la rentabilidad generales.
